|
|
|
Подробная информация о продукте:
Оплата и доставка Условия:
|
Чистоты: | минута 98,5% | Плотность: | 6.3-6.49г/км3 |
---|---|---|---|
Другой Кас никакой: | 1344-70-3 | EINECS никакой: | 215-269-1 |
Точка плавления: | 1326℃ | № КАС: | 185461-92-1 |
Высокий свет: | тунгстате цезия,куприк нанопартиклес окиси |
Уровни гальванизируя активную медную окись, также известную как гальванизируя уровни медной окиси, гальванизируя порошок медной окиси, покрывающ окись нанометра активную медную, гальванизируя окись ранга медная составлены более менее активного атомных или молекулярных комплексирования и состава, молекулярных частиц под 1 ум, несколько времен большой чем поверхностная область чем обычная медная окись, высокое содержание, низкие примеси, как порошок отлично и равномерные характеристики.
Продукт имеет более высокорадиоактивный и более быстрый тариф растворения.
Жидкостное электрическое представление продукта стабилизировано,
Продукт имеет небольшое воздействие на добавке плакировкой, и гальванизируя влияние стабилизировано.
ДЕТАЛЬ | СПЕЦИФИКАЦИИ | РЕЗУЛЬТАТЫ ТЕСТА | ||||
КуО (%, минута) | 99,5 | 99,5 | ||||
Примеси (мг/кг, Макс) | ||||||
Зн | ≤30 | 3,25 | ||||
Мн | ≤15 | 2,57 | ||||
Ни | ≤30 | 8,31 | ||||
Другой индекс | ||||||
Размер частицы (Д50, μм) | 0.5-1.0 |
ДЕТАЛЬ | СПЕЦИФИКАЦИИ | РЕЗУЛЬТАТЫ ТЕСТА |
КуО (%, минута) | 99,5 | |
Ку (%, минута) | 79,85 | |
Примеси (%, Макс) | ||
Си | 0,01 | |
Ал | <0.01 | |
Фе | 0,01 | |
Мг | <0.01 | |
Ка | <0.01 | |
К | <0.01 | |
П | <0.01 | |
Мн | <0.01 | |
Ти | <0.01 | |
Кр | <0.01 | |
Зн | <0.01 |
Контактное лицо: andrew.liao